因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

检测项目

1.厚度均匀性：薄膜厚度分布，层间厚度差，边缘厚度变化

2.成分均匀性：元素含量分布，掺杂浓度分布，杂质含量差异

3.晶体均匀性：晶粒尺寸分布，晶向一致性，晶格应变分布

4.表面形貌均匀性：表面粗糙度分布，台阶高度一致性，纹理密度差异

5.电阻率均匀性：片电阻分布，体电阻率差异，局部电阻异常点

6.介电性质均匀性：介电常数分布，介电损耗分布，漏电流差异

7.应力均匀性：薄膜应力分布，残余应力梯度，局部应力集中

8.缺陷密度均匀性：位错密度分布，孔洞密度分布，颗粒污染分布

9.界面一致性：界面粗糙度分布，界面层厚度差，界面化学组成差异

10.光学性质均匀性：反射率分布，透过率差异，吸收系数变化

检测范围

硅片、外延片、晶圆、光刻胶层、介电薄膜、金属薄膜、导电薄膜、绝缘薄膜、钝化层、栅介质层、扩散层、离子注入层、金属互连层、封装基板、微纳结构芯片、功率器件芯片

检测设备

1.薄膜厚度测量仪：测量薄膜厚度分布；用于评估层间一致性

2.成分分析仪：检测元素含量与掺杂分布；用于成分均匀性评估

3.晶体结构分析仪：分析晶体取向与应变；用于晶体一致性表征

4.表面形貌测量仪：获取表面粗糙度与形貌信息；用于形貌均匀性判断

5.片电阻测量仪：测量片电阻分布；用于电阻率均匀性分析

6.介电性能测试仪：测定介电常数与损耗；用于介电性质一致性评估

7.应力测量仪：测量薄膜应力与梯度；用于应力均匀性分析

8.缺陷检测系统：检测缺陷密度与分布；用于缺陷均匀性评估

9.界面分析仪：表征界面粗糙度与成分变化；用于界面一致性判断

10.光学性能测量仪：测量反射与透过特性分布；用于光学性质均匀性分析

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。