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因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
1.光学常数测定:折射率测定,消光系数测定,介电函数分析。
2.薄膜厚度检测:单层膜厚度测量,多层膜总厚度与各层厚度解析,厚度均匀性Mapping。
3.各向异性分析:双折射率测量,光学轴取向角测定,延迟量检测。
4.组分含量分析:特定官能团含量分析,掺杂浓度测定,共混物组分比例计算。
5.表面与界面特性:表面粗糙度评估,界面层厚度与混合度分析,层间扩散效应检测。
6.均匀性与一致性检测:面内厚度均匀性扫描,光学常数分布图,缺陷与污染点识别。
7.光学带隙与能级结构:吸收边确定,直接与间接带隙计算,Urbach能量分析。
8.应力与应变分析:光学方法测量薄膜内应力,应力引起的双折射变化检测。
9.动力学过程监测:溶胀过程监测,溶剂扩散系数测定,固化过程实时追踪。
10.光学色散关系建模:柯西模型拟合,塞尔迈耶尔模型拟合,洛伦兹振子模型分析。
11.偏振特性分析:偏振相关损耗测量,偏振态变化分析。
聚合物薄膜、光学胶涂层、液晶取向层、有机发光二极管功能层、光伏电池封装材料、防眩光涂层、增透减反膜、硬质保护涂层、柔性显示基板、光刻胶、光学级压敏胶、各向异性导电胶膜、偏光片、波导材料、半导体钝化层、药物缓释薄膜、食品包装阻隔涂层、汽车玻璃贴膜、建筑节能窗膜、装饰性镀膜
1.光谱椭偏仪:用于测量材料在不同波长下的椭圆偏振参数,是获取光学常数与薄膜厚度的核心设备;具备宽光谱范围和高角度分辨率。
2.激光椭偏仪:采用单波长激光光源,提供极高的测量精度和空间分辨率;常用于超薄膜检测和精密过程控制。
3.成像椭偏仪:结合椭偏测量与显微成像技术,可对样品微区进行快速、高分辨率的二维Mapping测量。
4.穆勒矩阵椭偏仪:能够测量完整的穆勒矩阵,用于全面分析各向异性、 depolarization 等复杂光学性质。
5.分光光度计:测量样品的透射率与反射率光谱,作为椭偏数据的补充验证,并用于计算光学带隙。
6.偏光显微镜:直观观察样品的双折射现象、织构与缺陷,进行定性或半定量分析。
7.相位调制型椭偏仪:采用光电调制技术,具备高速测量能力,适用于动态过程监测。
8.傅里叶变换红外光谱仪:通过红外吸收光谱分析材料中的化学键与官能团,用于组分定性与定量分析。
9.白光干涉仪:独立测量薄膜的物理台阶高度与表面形貌,为光学厚度测量提供物理基准校准。
10.在线监测式椭偏系统:集成于镀膜或涂布生产线,用于工艺过程中的实时、非接触厚度与光学常数监控。
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

北京前沿科学技术研究院

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