|
获取报告模板? 咨询解决方案? 查询检测项目? 检测周期? 样品要求? |
立 即 咨 询 ![]() |
因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
1.表面元素定性分析:通过扫描全谱能量范围,识别光电子特征峰位,确定材料表面存在的元素种类,检测限可达0.1原子百分比,适用于未知样品初步筛查与成分确认。
2.元素化学状态鉴定:分析光电子峰的结合能位移,识别元素化学态如氧化态、键合环境,用于评估材料表面化学反应与稳定性。
3.元素半定量分析:基于光电子峰强度与灵敏度因子,计算表面元素相对原子浓度,提供成分比例数据,支持材料配比优化。
4.深度剖析:结合离子溅射剥离表面层,逐层分析元素组成与化学状态变化,用于研究薄膜、涂层或界面扩散过程。
5.角分辨X射线光电子能谱分析:改变光电子出射角,获取表面不同深度信息,用于分析超薄膜、表面偏析或粗糙度影响。
6.价带谱分析:测量低动能区域电子谱,反映材料电子结构、能带信息,用于鉴别相似化学态或研究导电性能。
7.成像X射线光电子能谱分析:通过微区扫描或平行成像模式,获取表面元素与化学状态空间分布图,用于缺陷、污染或相分离研究。
8.绝缘样品分析:采用电荷中和技术补偿表面充电效应,确保绝缘材料如陶瓷、聚合物谱图准确性,避免峰位偏移。
9.污染分析:检测表面吸附碳、氧等污染物,评估清洁度或环境暴露影响,适用于半导体工艺或存储材料评估。
10.薄膜厚度测量:基于光电子信号衰减模型或角分辨数据,计算超薄膜厚度,用于纳米涂层、自组装膜质量控制。
1.金属及合金材料:分析表面氧化层、腐蚀产物或合金相组成,用于航空航天、汽车部件表面处理评估。
2.半导体材料:检测硅片、化合物半导体表面元素掺杂、界面态或污染,支持器件工艺优化与失效分析。
3.聚合物材料:表征表面官能团、改性层或老化产物,用于塑料、橡胶涂层粘附性或生物相容性研究。
4.陶瓷材料:分析表面晶相、杂质元素分布,用于电子陶瓷、结构陶瓷烧结过程或性能评估。
5.催化剂材料:研究活性组分化学态、表面分散度与反应中间体,用于催化机理研究与性能优化。
6.生物材料:检测蛋白质、细胞吸附层表面元素与化学态,用于植入材料表面改性或生物传感器开发。
7.纳米材料:分析纳米颗粒、纳米线表面成分与包覆层,用于尺寸效应、稳定性或功能化评估。
8.涂层与薄膜:评估防腐涂层、光学薄膜元素均匀性、界面扩散,用于耐久性、光学性能质量控制。
9.环境样品:检测大气颗粒物、土壤表面重金属形态,用于污染源解析或环境迁移研究。
10.考古文物:分析古代金属、陶瓷表面腐蚀层或颜料成分,用于文物年代鉴定与保护修复。
国际标准:
ISO 15472、ISO 18115-1、ISO 18115-2、ISO 19318、ISO 20903、ISO 14701、ISO 16243、ISO 17973、ISO 17974、ISO 17975
国家标准:
GB/T 19500、GB/T 28894、GB/T 17359、GB/T 26533、GB/T 33502、GB/T 33503、GB/T 33504、GB/T 33505、GB/T 33506、GB/T 33507
1.X射线光电子能谱仪:核心设备,包含X射线源、电子能量分析器与探测器,用于激发光电子并测量动能,实现表面成分分析。
2.单色化X射线源:提供高能量分辨率X射线,减少辐射损伤与卫星峰干扰,提高谱图信噪比与化学态分辨能力。
3.电子能量分析器:测量光电子动能,常用半球型分析器,通过电场扫描获取能谱,决定仪器能量分辨率与灵敏度。
4.离子溅射枪:使用惰性气体离子束溅射样品表面,进行深度剖析或清洁预处理,需控制溅射速率以避免样品损伤。
5.样品台及操纵系统:实现样品平移、旋转与倾角调节,支持多位置分析、角分辨测量与批量样品快速切换。
6.真空系统:维持分析室超高真空环境,减少气体散射对光电子信号影响,确保测量稳定性与准确性。
7.电荷中和器:通过低能电子束或氩离子流中和绝缘样品表面电荷,消除充电效应导致的谱峰位移与形变。
8.探测器:通常为通道电子倍增器或位置敏感探测器,用于收集并放大光电子信号,提高检测效率与成像速度。
9.数据采集与处理软件:控制仪器参数、采集能谱数据,并提供峰拟合、定量计算与成像处理功能,支持结果解析与报告生成。
10.校准样品:如金、银、铜标准片,用于仪器能量标尺校准与分辨率验证,确保测量结果可溯源性。
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。