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光刻工艺用特气纯度测试

原创版权 1 关键字:光刻工艺用特气纯度测试,第三方检测机构,中析研究所 相关: 发布时间: 2025-08-13 08:28:50

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因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

检测项目

主成分纯度检测:

  • 体积分数测定:主成分体积分数(≥99.999%,参照SEMIC3.36)、摩尔分数偏差(±0.0005%)
  • 质量分数验证:主成分质量分数(≥99.9995%)、密度偏差(±0.001g/L)
金属杂质检测:
  • 过渡金属:铁(Fe)含量(≤1ppb)、铜(Cu)含量(≤0.5ppb)、镍(Ni)含量(≤0.8ppb)
  • 碱金属:钠(Na)含量(≤0.2ppb)、钾(K)含量(≤0.3ppb)、锂(Li)含量(≤0.1ppb)
  • 稀有金属:铝(Al)含量(≤0.8ppb)、钛(Ti)含量(≤0.5ppb)、锆(Zr)含量(≤0.3ppb)
非金属氧化物杂质检测:
  • 硅氧化物:二氧化硅(SiO₂)含量(≤2ppb)、一氧化硅(SiO)含量(≤1ppb)
  • 碳氧化物:一氧化碳(CO)含量(≤5ppb)、二氧化碳(CO₂)含量(≤10ppb)
  • 氮氧化物:一氧化氮(NO)含量(≤3ppb)、二氧化氮(NO₂)含量(≤2ppb)
有机杂质检测:
  • 烃类:甲烷(CH₄)含量(≤3ppb)、乙烷(C₂H₆)含量(≤2ppb)、乙炔(C₂H₂)含量(≤1ppb)
  • 含氧有机:丙酮(C₃H₆O)含量(≤1ppb)、甲醇(CH₃OH)含量(≤0.5ppb)、乙醇(C₂H₅OH)含量(≤0.8ppb)
  • 含氮有机:氨(NH₃)含量(≤2ppb)、甲基胺(CH₃NH₂)含量(≤1ppb)
卤化物杂质检测:
  • 氟化物:氟化氢(HF)含量(≤0.3ppb)、三氟化氮(NF₃)含量(≤0.5ppb)
  • 氯化物:氯化氢(HCl)含量(≤0.5ppb)、氯气(Cl₂)含量(≤0.2ppb)
  • 溴化物:溴化氢(HBr)含量(≤0.4ppb)、溴气(Br₂)含量(≤0.1ppb)
水分含量检测:
  • 露点温度:露点温度(≤-80℃,参照ASTMD6304)、水质量分数(≤1ppb)
  • 卡尔费休滴定:水分含量(≤0.5ppb,重复性±0.05ppb)
颗粒度检测:
  • 颗粒数量:≥0.1μm颗粒数(≤10个/mL)、≥0.2μm颗粒数(≤5个/mL)
  • 颗粒尺寸分布:D10(≤0.15μm)、D50(≤0.2μm)、D90(≤0.3μm)
气相杂质检测:
  • 惰性气体:氦气(He)含量(≤10ppb)、氩气(Ar)含量(≤5ppb)、氖气(Ne)含量(≤3ppb)
  • 活性气体:氧气(O₂)含量(≤2ppb)、氮气(N₂)含量(≤5ppb)、氢气(H₂)含量(≤3ppb)
酸碱性杂质检测:
  • 氢离子浓度:pH值(6.5~7.5,参照GB/T14636)、酸雾含量(≤0.1ppb)
  • 碱金属离子:钠(Na⁺)含量(≤0.2ppb)、钾(K⁺)含量(≤0.3ppb)
稳定性指标检测:
  • 挥发分含量:≤0.001%(105℃,2h)、分解产物(如SiH₄分解为Si的量≤0.1ppb)
  • 储存稳定性:30天内纯度变化(≤0.0005%)、杂质增量(≤0.2ppb)

检测范围

1.硅基特气:涵盖硅烷(SiH₄)、二氯硅烷(SiH₂Cl₂)、四氯化硅(SiCl₄)、三氯氢硅(SiHCl₃),重点检测氯含量(≤0.5ppb)与金属杂质(Fe≤1ppb)

2.光刻胶配套特气:包括氦气(He)、氮气(N₂)、氩气(Ar)、二氧化碳(CO₂),侧重水分(≤1ppb)与有机杂质(CH₄≤3ppb)

3.掺杂特气:涵盖磷烷(PH₃)、砷烷(AsH₃)、硼烷(B₂H₆)、锑烷(SbH₃),重点检测毒性杂质(AsH₃分解产物≤0.1ppb)与纯度(≥99.999%)

4.蚀刻特气:包括氟气(F₂)、三氟化氮(NF₃)、六氟化硫(SF₆)、氯化氢(HCl),侧重卤化物(HF≤0.3ppb)与颗粒度(≥0.1μm颗粒数≤10个/mL)

5.CVD特气:涵盖甲烷(CH₄)、乙烷(C₂H₆)、乙炔(C₂H₂)、乙烯(C₂H₄),重点检测有机杂质(丙酮≤1ppb)与纯度(≥99.999%)

6.氧化特气:包括氧气(O₂)、臭氧(O₃)、一氧化二氮(N₂O)、二氧化氮(NO₂),侧重气相杂质(O₂≤2ppb)与稳定性(30天纯度变化≤0.0005%)

7.还原特气:涵盖氢气(H₂)、一氧化碳(CO)、氨气(NH₃)、肼(N₂H₄),重点检测氧含量(≤2ppb)与水分(≤1ppb)

8.载气特气:包括氦气(He)、氩气(Ar)、氮气(N₂)、氖气(Ne),侧重纯度(≥99.999%)与颗粒度(≥0.1μm颗粒数≤10个/mL)

9.前驱体特气:涵盖三甲基铝(TMA)、三乙基镓(TEGa)、三甲基铟(TMI)、二茂铁(Fe(C₅H₅)₂),重点检测金属杂质(Al≤0.8ppb)与分解产物(≤0.1ppb)

10.清洗特气:包括氯气(Cl₂)、氯化氢(HCl)、氟化氢(HF)、溴化氢(HBr),侧重酸碱性杂质(pH6.5~7.5)与纯度(≥99.999%)

11.氧化腔特气:涵盖氧气(O₂)、臭氧(O₃)、一氧化二氮(N₂O)、水蒸气(H₂O),重点检测氧含量(≤2ppb)与水分(≤1ppb)

12.显影配套特气:包括氮气(N₂)、压缩空气(CleanDryAir)、二氧化碳(CO₂),侧重颗粒度(≥0.1μm颗粒数≤10个/mL)与有机杂质(≤1ppb)

检测方法

国际标准:

  • ISO14910:2021气体分析—痕量杂质测定—气相色谱法(用于烃类、卤化物检测)
  • ASTMD7673-20半导体级气体中金属杂质的电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS,检测限≤0.01ppb)
  • SEMIC3.36-0903电子工业用气体—硅烷中杂质含量的测定(气相色谱-质谱联用法)
  • ISO11155-2:2019颗粒计数—光散射法(用于0.1μm~10μm颗粒检测)
  • ASTMD6304-19气体中水分含量的测定—激光露点法(测量范围-100℃~+20℃)
国家标准:
  • GB/T37186-2018电子工业用气体硅烷(主成分纯度与氯含量检测)
  • GB/T34235-2017电子工业用气体痕量水分的测定激光露点法(与ASTMD6304的差异:样品前处理采用冷阱富集)
  • GB/T14636-2007电子工业用气体酸度的测定(pH值范围6.0~8.0)
  • GB/T28124-2011气体中颗粒含量的测定光散射法(颗粒尺寸范围0.1μm~10μm)
  • GB/T16943-2009电子工业用气体杂质含量的测定气相色谱法(与ISO14910的差异:色谱柱采用GDX-105柱)
(注:国际标准与国家标准的方法差异主要体现在样品前处理(如冷阱富集vs直接进样)、色谱柱选择(如HP-PLOTQ柱vsGDX-105柱)及检测限要求(如ICP-MS检测限≤0.01ppbvs国内标准≤0.1ppb))

检测设备

1.气相色谱-质谱联用仪(GC-MS):Agilent7890A-5975C(检测限≤0.1ppb,分辨率≥5000,适用于烃类、有机杂质检测)

2.电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS):PerkinElmerNexION350X(金属杂质检测限≤0.01ppb,动态范围10^9,适用于Fe、Cu、Al等检测)

3.激光露点仪:EdwardsWDMS(测量范围-100℃~+20℃,精度±0.5℃,适用于水分含量检测)

4.离子色谱仪(IC):DionexICS-6000(阴离子检测限≤0.05ppb,柱温稳定性±0.1℃,适用于Cl⁻、F⁻等卤化物检测)

5.傅里叶变换红外光谱仪(FTIR):BrukerTensor27(波数范围4000cm⁻¹~400cm⁻¹,分辨率≤0.5cm⁻¹,适用于CO、CO₂等氧化物检测)

6.颗粒计数器:PMSLasairII1100(颗粒尺寸范围0.1μm~10μm,计数效率≥95%,适用于颗粒度检测)

7.气相色谱仪(GC):ShimadzuGC-2030(配备电子捕获检测器(ECD),检测限≤0.05ppb,适用于卤化物、惰性气体检测)

8.原子吸收光谱仪(AAS):VarianAA240FS(火焰法检测限≤0.01mg/L,石墨炉法≤0.001mg/L,适用于金属杂质辅助验证)

9.质谱仪(MS):ThermoFisherTSQQuantumXLS(扫描速度≥10000u/s,灵敏度≥1e6counts/ppm,适用于痕量杂质定性)

10.高效液相色谱仪(HPLC):WatersAcquityUPLC(柱温范围5℃~95℃,流速精度±0.1%,适用于有机污染物分离)

11.激光诱导击穿光谱仪(LIBS):OceanOpticsLIBS-2000(检测限≤1ppm,分析时间≤1s,适用于金属杂质快速筛查)

12.热导检测器(TCD):Agilent5890II(线性范围10^6,灵敏度≥1000mV·mL/mg,适用于主成分纯度检测)

13.电子自旋共振波谱仪(ESR):BrukerElexsysE500(磁场范围0~2.5T,分辨率≤0.001mT,适用于自由基杂质检测)

14.差示扫描量热仪(DSC):TAInstrumentsQ2000(温度范围-180℃~700℃,热量精度±0.1μW,适用于稳定性指标检测)

15.比表面积分析仪(BET):MicromeriticsTriStarII3020(比表面积范围0.01m²/g~5000m²/g,精度±1%,适用于颗粒表面特性辅助分析)

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

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