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因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
电学性能检测:
1.单晶硅片清洗超纯水:用于去除硅片表面污染物,重点检测电阻率、离子杂质和颗粒物,确保无残留影响晶体结构。
2.多晶硅片清洗超纯水:应用于多晶硅制备过程,侧重TOC和微生物检测,防止有机污染和生物膜形成。
3.电池片制造过程超纯水:涵盖扩散、刻蚀等工序,核心检测电导率、溶解气体和金属杂质,保障电池效率与寿命。
4.组件封装用超纯水:用于层压和封装阶段,重点分析pH值、硅含量和颗粒物,避免组件性能degradation。
5.冷却系统超纯水:应用于光伏设备冷却,检测硼含量和微生物,防止腐蚀和堵塞。
6.化学机械抛光超纯水:用于硅片平坦化处理,侧重离子含量和颗粒计数,确保表面光滑无缺陷。
7.湿法刻蚀超纯水:涉及酸碱性溶液稀释,核心检测电阻率、氯离子和TOC,维持刻蚀精度。
8.去离子水系统输出水:从纯化系统产出,重点监控电学性能和离子残留,验证系统效率。
9.回收水处理系统超纯水:用于水资源再利用,检测金属杂质和微生物,确保循环水质安全。
10.实验室分析用超纯水:作为试剂和校准基准,全面测试所有参数,保证分析准确性和可追溯性。
国际标准:
1.超纯水电阻率仪:OrionStarA212型(测量范围0.01-20MΩ·cm,精度±0.5%,温度补偿自动)
2.电导率仪:Jenway470型(范围0.001-200mS/cm,分辨率0.001μS/cm,自动温度校正)
3.TOC分析仪:SieversM9型(检测限0.03ppb,测量范围0.05-500ppb,紫外氧化原理)
4.离子色谱仪:DionexICS-6000型(分辨率0.1ppb,可检测多种阴离子阳离子,流速0.5-2.0mL/min)
5.颗粒计数器:ParticleMeasuringSystemsLiquilaz型(尺寸范围0.1-100μm,计数效率≥95%,激光传感技术)
6.微生物检测系统:MilliporeMilliFlex型(检测限1CFU/mL,培养时间24-48小时,膜过滤法)
7.溶解氧分析仪:HachOrbisphere3100型(范围0.1-100ppb,精度±0.5ppb,电化学传感器)
8.pH计:MetlerToledoSevenExcellence型(精度±0.01,温度范围0-100°C,自动校准功能)
9.硅分析仪:HachPolymetron9500型(检测限0.01ppb,基于钼蓝法,测量时间<5分钟)
10.硼分析仪:ThermoScientificiCAPRQ型(检测限0.001ppb,ICP-MS原理,多元素同时分析)
11.金属杂质分析仪:Agilent7900ICP-MS型(多元素检测限0.01ppb,质量范围2-260amu,氦气碰撞池)
12.超纯水系统监控仪:EvoquaUltraPure型(集成电阻率、TOC、温度监测,数据输出4-20mA,报警功能)
13.采样系统:GEBetzSampleCooler型(温度控制±1°C,流量范围0.1-5L/min,不锈钢材质)
14.数据记录仪:YokogawaMX100型(多通道输入,记录间隔1秒-24小时,存储容量16GB)
15.校准设备:Fluke724型(精度±0.1%,可校准多种传感器,便携式设计)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。