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因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
1. 亚晶界密度:测量单位面积内亚晶界数量(5×10³~1×10⁵条/mm²)
2. 取向差角度分布:统计相邻晶粒间取向差角度(0.5°~15°)
3. 亚晶界连续性:评估亚晶界网络完整度(断裂率≤3%)
4. 位错密度关联性:测定位错缠结区与亚晶界的空间对应关系(分辨率≤50nm)
5. 热稳定性参数:记录退火过程中亚晶界迁移速率(温度范围20~1200℃)
1. 金属合金:铝合金(AA6061/7075)、钛合金(Ti-6Al-4V)、镍基高温合金(Inconel 718)
2. 陶瓷材料:氧化铝(Al₂O₃)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si₃N₄)烧结体
3. 半导体材料:单晶硅片(直径300mm)、砷化镓外延层(厚度2~50μm)
4. 增材制造部件:选区激光熔化(SLM)成形316L不锈钢构件
5. 纳米晶体材料:平均晶粒尺寸≤100nm的纯铜箔材
ASTM E112-13:定量金相学测定平均晶粒尺寸方法
ISO 643:2019:钢的奥氏体晶粒度显微测定法
GB/T 13298-2015:金属显微组织检验方法
GB/T 6394-2017:金属平均晶粒度测定法
ISO 16700:2016:扫描电镜校准规范
1. 蔡司Sigma 500场发射扫描电镜:配备Oxford Symmetry S2 EBSD探测器,空间分辨率1nm
2. FEI Talos F200X透射电镜:STEM模式分辨率0.16nm,配备Super-X能谱系统
3. Bruker eFlash HR EBSD系统:最大采集速度3000点/秒,角度分辨率0.05°
4. Gatan 656精密离子抛光仪:加速电压1~8kV可调,用于TEM样品制备
5. Leica EM TXP靶向切片系统:定位精度±50nm,支持FIB-SEM联用
6. Oxford Instruments AztecCrystal EBSD分析软件:支持Hough变换与模式匹配算法
7. Shimadzu HMV-G20显微硬度计:载荷范围0.01~2kgf,关联亚晶界强化效应
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。