因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

检测项目

1.元素定性定量分析：检测范围1E3-1E6cps，相对灵敏度0.1-10at%，能量分辨率≤0.5eV

2.化学态表征：结合能测量精度0.1eV，峰面积重复性误差＜3%

3.深度剖析：溅射速率0.1-50nm/min（Ar+离子束），深度分辨率≤5nm

4.表面污染分析：检出限达0.1monolayer（ML），空间分辨率≤3μm

5.价带结构分析：能量扫描范围0-1500eV，通能模式（CAE/CRR）切换误差＜0.05%

检测范围

1.金属材料：铝合金表面氧化层厚度测定（5-200nm），不锈钢钝化膜Cr/Fe比分析

2.半导体器件：晶圆表面金属污染（Na/K/Cu≤1E10atoms/cm），GaN外延层组分梯度测量

3.陶瓷涂层：热障涂层YSZ相变监测（t-ZrO2/m-ZrO2比例），Al2O3薄膜结晶度评估

4.高分子材料：聚合物表面氟化处理深度（C-F键合状态变化），光刻胶残留物鉴定

5.环境样品：大气颗粒物重金属赋存形态（Pb+/Pb⁴+比例），土壤腐殖酸官能团定量

检测方法

1.ASTME1257-16：金属材料XPS深度剖析标准化溅射程序

2.ISO15472:2010：X射线光电子能谱仪能量标定规范（Ag3d5/2峰368.26eV）

3.GB/T30704-2014：无机非金属材料EDS面分布分析方法

4.ISO20903:2019：俄歇电子能谱(AES)定量重复性验证规程

5.GB/T28894-2012：表面化学分析XPS数据报告格式规范

检测设备

1.ThermoScientificESCALABXi+：配备微聚焦单色AlKα源（1486.6eV），空间分辨率7μm

2.KratosAXISSupra：集成紫外光电子能谱(UPS)模块（HeI21.22eV）

3.ULVAC-PHIVersaProbeIV：多模式离子枪系统（0.1-10keVAr+溅射）

4.BrukerQUANTAXEDS：硅漂移探测器(SDD)，能量分辨率129eV@MnKα

5.JEOLJAMP-9500F：场发射俄歇微探针(AES)，束斑直径8nm@10nA

6.SPECSPHOIBOS150：半球型能量分析器(HSA)，角度分辨模式30可调

7.OmicronArgusCU-T:低温样品台（-190℃至600℃），原位反应池设计

8.RBDInstruments1475:延迟线探测器(DLD)，时间分辨光电子能谱采集

9.HidenAnalyticalSIMSWorkstation:二次离子质谱联用系统(TOF-SIMS)

10.STAIBInstrumentsDESA100:双阳极X射线源(Mg/Al双靶快速切换)

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。