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因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
分辨率校准(标样尺寸:0.5-10nm,误差范围≤±5%)
表面形貌三维重构(台阶高度测量精度:±0.1nm)
元素分布能谱分析(元素检测范围:B-U,探测限:0.1wt%)
晶格条纹测量(晶面间距误差≤±0.002Å)
样品厚度测定(电子能量损失谱法,精度±2nm)
半导体材料:硅片、GaN薄膜、集成电路纳米结构
纳米材料:量子点、碳纳米管、二维材料层间结构
金属材料:铝合金晶界、钛合金相组成、焊接界面缺陷
生物医学样品:细胞超微结构、药物载体粒径分布
高分子材料:共混物相分离、纤维断面形貌
ASTM E766:扫描电镜(SEM)校准规范
ISO 16700:透射电镜(TEM)分辨率测定方法
GB/T 27788:微束分析能谱定量分析通则
ISO 21363:纳米颗粒尺寸测量技术规范
GB/T 36065:纳米材料表征用透射电子显微镜方法
场发射扫描电镜:FEI Nova NanoSEM 450(分辨率0.8nm@15kV)
球差校正透射电镜:JEOL JEM-ARM300F(点分辨率0.05nm)
能谱仪:Oxford Instruments X-MaxN 150(硅漂移探测器)
聚焦离子束系统:Thermo Scientific Helios G4 UX(5nm铣削精度)
电子能量损失谱仪:Gatan Quantum 966(能量分辨率0.25eV)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。